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MWECR-CVD法高速沉积氢化非晶硅薄膜
Alternative TitleMWECR-CVD法高速沉积氢化非晶硅薄膜
刘国汉; 丁毅; 何斌; 朱秀红; 陈光华; 贺德衍
2006-04-28
Source Publication兰州大学学报(自然科学版)   Impact Factor & Quartile
ISSN0455-2059
Issue2Pages:43-46
Abstract介绍了一种新型的 MWECR-CVD 装置.该装置设计采用了一种由单个电磁线圈和永磁体单元组合的新型磁场,设计了一种新型的矩形耦合波导.应用这一装置使 a-Si∶H 薄膜的沉积速率达到了 2nm/s 以上.为了降低薄膜的光致衰退效应,提出了热丝辅助的 MWECR-CVD,这一改进可以大大降低薄膜的氢含量,改善薄膜的光照稳定性.
Keyword微波电子回旋共振化学气相沉积 氢化非晶硅薄膜 磁场 微波 热丝
Publication PlaceLanzhou
Indexed ByCSCD
Language中文
First Inst
Funding Project国家重点基础研究发展计划以及国家重大科学研究计划(973计划)
Host of Journal兰州大学
Project Number国家重点基础研究发展规划资助项目(G000028201)。
CSCD IDCSCD:2445723
Funding OrganizationMOST
IRIDCNKI:0028353
Department
兰州大学物理科学与技术学院;
兰州大学物理科学与技术学院;
北京工业大学材料学院;
北京工业大学材料学院;
兰州大学物理科学与技术学院;
兰州大学物理科学与技术学院 甘肃兰州 730000 甘肃省科学院传感技术研究所;
甘肃兰州 730000;
甘肃兰州 730000;
北京 100022;
北京 100022...更多
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Document Type期刊论文
Identifierhttps://ir.lzu.edu.cn/handle/262010/101445
Collection物理科学与技术学院
兰州大学
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GB/T 7714
刘国汉,丁毅,何斌,等. MWECR-CVD法高速沉积氢化非晶硅薄膜[J]. 兰州大学学报(自然科学版),2006(2):43-46.
APA 刘国汉,丁毅,何斌,朱秀红,陈光华,&贺德衍.(2006).MWECR-CVD法高速沉积氢化非晶硅薄膜.兰州大学学报(自然科学版)(2),43-46.
MLA 刘国汉,et al."MWECR-CVD法高速沉积氢化非晶硅薄膜".兰州大学学报(自然科学版) .2(2006):43-46.
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