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电子辐照下氧化锌涂层光学特性变化的解析 期刊论文
真空科学与技术学报, 2011, 卷号: 31, 期号: 1, 页码: 85-88
Authors:  李丹明;  薛玉雄;  贺德衍;  王骥;  田海;  Li, D. (lidanming@sina.com)
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氧化锌白漆  电子辐照  光学特性  分析  Analysis  Depth profile  Developed model  Electron radiation  Electronic irradiation  Least-square fitting  MATLAB software package  Measured data  Optical characteristic  Optical characteristics  Photon absorptions  Space environment  Thermal control  Unknown parameters  White paints  ZnO  ZnO films  
Al诱导a-Si:H薄膜的晶化 期刊论文
真空科学与技术学报, 2005, 卷号: 25, 期号: 1, 页码: 57-60
Authors:  祁菁;  金晶;  胡海龙;  贺德衍;  He, D. (hedy@lzu.edu.cn)
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等离子体化学气相沉积  Al诱导晶化  氢化非晶Si薄膜  低温多晶Si薄膜  Al effect  Hydrogenated amorphous silicon films  Low temperature polycrystalline silicon films  
电感耦合等离子体CVD室温制备的硅薄膜的结构研究 期刊论文
Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao/Journal of Vacuum Science and Technology, 2004, 卷号: 24, 期号: 6, 页码: 465-468
Authors:  王晓强;  陈强;  栗军帅;  杨定宇;  贺德衍;  He, D. (hedy@lzu.edu.cn)
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ICP-CVD  Si薄膜  低温生长  微结构  Room temperature growth  Silane concentration  Silicon films  
V_2O_5薄膜的结构和光电性能研究 期刊论文
Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao/Journal of Vacuum Science and Technology, 2003, 卷号: 23, 期号: 6, 页码: 373-376
Authors:  许旻;  邱家稳;  贺德衍;  Xu, M. (mxu02@st.lzu.edu.cn)
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V2O5薄膜  结构  形貌  电性能  吸收因数  Absorption coefficient  Optical band gap  Surface microscopy  Vanadium pentoxide film  
退火对反应磁控溅射制备ITO薄膜性能影响 期刊论文
Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao/Journal of Vacuum Science and Technology, 2003, 卷号: 23, 期号: 3, 页码: 161-164
Authors:  许旻;  邱家稳;  贺德衍;  Xu, M. (mxu02@st.lzu.edu.cn)
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ITO  透明导电薄膜  光学特性  电学特性  Indium tin oxide  Reactive magnetron sputtering  Transparent conductive thin film  
原位氮掺杂对CVD金刚石薄膜生长和结构的影响 期刊论文
Zhenkong Kexue yu Jishu Xuebao/Journal of Vacuum Science and Technology, 2002, 期号: 3, 页码: 4
Authors:  邵乐喜;  刘小平;  屈菊兰;  谢二庆;  贺德衍;  陈光华
Adobe PDF(155Kb)  |  Favorite  |    Submit date：2015/04/27
氮掺杂  化学气相沉积金刚石薄膜  结构  形貌